開催主旨

　近年、半導体デバイスは驚異的なスピードで微細化・多層化が進んでおり、その製造プロセスにおける洗浄技術の重要性はますます高まっています。本講座では、半導体製造プロセスにおける洗浄、特に物理的洗浄手法に焦点を当て、その基礎から最新の動向までを網羅的に解説します。半導体デバイスの基本的な構造から説き起こし、製造プロセス全体における洗浄の必要性を丁寧に説明します。現在の製造現場で広く用いられている高圧スプレー洗浄、二流体スプレー洗浄、メガソニック洗浄、ブラシ洗浄といった主要な物理的洗浄手法について、その原理と応用を深く掘り下げていきます。さらに、講師が長年専門としてきたテーマである、洗浄時に発生する静電気障害とそのメカニズム、そして具体的な対策方法について詳しく解説します。この課題は、デバイスの微細化に伴い重要度を増しており、その知見は現場の生産技術に直結するものです。

　また、最先端の洗浄技術を学ぶ上で欠かせない、国際的な学会の最新情報もご紹介します。IMEC主催のUCPSS（Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces）やThe Electrochemical Society主催のSCST（International Symposium on Semiconductor Cleaning Science & Technology）といった、半導体洗浄分野における主要な国際会議の動向から、次世代の物理的洗浄技術に関するヒントを得ることができます。

　本講座は、半導体デバイス洗浄に携わり始めて3～4年の方や、半導体洗浄関連のビジネスを検討されている方にとって、基礎知識の確認と最新技術トレンドの把握に最適な内容となっています。

受講対象

■半導体デバイス製造の基礎知識を体系的に学びたい方

■物理的洗浄手法の原理と応用を深く理解したい方

■製造現場の課題である静電気障害の対策に関心がある方

■国際会議の最新動向から次世代の洗浄技術のヒントを得たい方

習得可能知識

■半導体デバイス製造における洗浄の基礎知識を体系的に習得できる。

■主要な物理的洗浄手法の原理と応用を深く理解し、現場での課題解決に活かせる。

■洗浄時の静電気障害メカニズムと対策方法を習得し、生産性向上に貢献できる。

■国際学会の最新動向から次世代の洗浄技術のヒントを得て、将来のビジネスや研究開発に役立てられる。

　本セミナーは、オンライン形式でのセミナーとなります。オンラインでのご視聴方法（参加用URL等）はご登録くださいましたメールにお知らせいたします。ZOOMでの視聴が困難な方には別途、こちらの手順を参照のうえブラウザ上でご視聴ください。